Titan(Ti)-Multi-Arc-Target
Rundes Multi-Arc-Target aus Titan
Titan-Multi-Arc-Targets sind hochmoderne Komponenten im PVD-Verfahren (Physical Vapour Deposition), mit denen hochwertige Titanfilme auf Substraten abgeschieden werden.
Titan-Mehrbogentargets bestehen aus hochreinem Titan und werden mithilfe fortschrittlicher Technologie hergestellt. Die Targets können Titanfilme mit hervorragender Haftung, Dichte und Gleichmäßigkeit abscheiden und erfüllen so die strengen Anforderungen moderner Industrieanwendungen.
Das Titan-Mehrbogentarget unseres Unternehmens zeichnet sich durch hohe Reinheit, hohe Dichte, präzise Größe, kleine Korngröße und gleichmäßige Verteilung aus und gewährleistet so effektiv eine schnelle Filmabscheidungseffizienz, gleichmäßige Verteilung und gute Leistung.
Informationen zu Titan-Multi-Arc-Zielen
Produktname | Titan-Multi-Arc-Target |
Grad | TA1, TA2 |
Standard | GB/T2965-2007 |
Reinheit | 99,7 %, 99,5 %, 99,99 % |
Dichte | 4,506 g/cm³ |
Schmelzpunkt | 1668℃ |
Siedepunkt | 3287 ℃ |
Verfahren | Stangenschneiden-Bearbeiten-Reinigen-Qualitätsprüfung-Lieferung |
Mindestbestellmenge | 10 Stück |
Lieferspezifikation
Durchmesser (mm) | Dicke (mm) |
Φ100 | 40/50/60 |
Φ95 | 40/45 |
Φ90 | 40 |
Φ80 | 40 |
Weitere Spezifikationen und Größen ermöglichen eine individuelle Anpassung. |

Je nach Ihren tatsächlichen Bedürfnissen können wir verschiedene Größen für Sie anpassen. Wir bieten auch Multi-Arc-Targets aus Zirkonium an. Kontaktieren Sie uns für weitere Informationen.
Titan-Multi-Arc-Target-Anwendungen
Multi-Arc-Targets aus Titan finden vielfältige Anwendungsmöglichkeiten in verschiedenen Branchen, darunter:
• Halbleiterfertigung
• Optik und Photonik
• Solarzellenproduktion
• Dekorative Beschichtungen
Titan-Mehrbogen-Targets können an spezifische Anforderungen angepasst werden, einschließlich Target-Geometrie, -Größe und -Zusammensetzung.
Was ist Multi-Arc-Ionenplattieren?
Die Multi-Arc-Ionenplattierungstechnologie ist eine Oberflächenbehandlungstechnologie, die kathodische Lichtbogenabscheidung und Ionenstrahlabscheidung kombiniert. Während des Mehrbogen-Ionenplattierungsprozesses interagieren hochenergetische Ionenstrahlen mit der Zieloberfläche, sodass die Atome oder Moleküle auf der Zieloberfläche ausreichend Energie erhalten, die Zieloberfläche verlassen und sich auf der Substratoberfläche ablagern, um einen dünnen Film zu bilden. Die Multi-Arc-Ionenplattierungstechnologie zeichnet sich durch eine hohe Abscheidungsrate, eine gute Filmqualität und einen breiten Anwendungsbereich aus. Daher wird es häufig in der Industrie, Medizin, Optik und anderen Bereichen eingesetzt.
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