Anwendung

PVD-Beschichtung

PVD-Technologie (Physical Vapour Deposition) bezieht sich auf die Verwendung physikalischer Methoden unter Vakuumbedingungen, um die Oberfläche einer Materialquelle (fest oder flüssig) in gasförmige Atome oder Moleküle zu verdampfen oder teilweise in Ionen zu ionisieren und durch ein Niederdruckgas ( oder Plasma)-Verfahren, eine Technologie, die dünne Filme mit bestimmten speziellen Funktionen auf der Oberfläche eines Substrats abscheidet.PVD (Physical Vapour Deposition) ist eine wichtige Oberflächenbehandlungstechnologie, die in verschiedenen Branchen häufig zur Oberflächenmodifizierung, Funktionalisierung, Dekoration usw. von Materialien eingesetzt wird.

Prinzip der Elektronenstrahlverdampfung

Die PVD-Beschichtungstechnologie (Physical Vapour Deposition) wird hauptsächlich in drei Kategorien unterteilt: Vakuumverdampfungsbeschichtung, Vakuumsputterbeschichtung und Vakuumionenplattierung.Zu den Hauptmethoden der physikalischen Gasphasenabscheidung gehören Vakuumverdampfung, Sputterbeschichtung, Lichtbogenplasmabeschichtung, Ionenbeschichtung usw. Zu den entsprechenden Vakuumbeschichtungsgeräten gehören Vakuumverdampfungsbeschichtungsmaschinen, Vakuumsputterbeschichtungsmaschinen und Vakuumionenbeschichtungsmaschinen.

Zu unseren verwandten Produkten gehören Auskleidungen für Elektronenstrahltiegel, Wolfram-Verdampfungsfilamente, Elektronenkanonen-Wolframfilamente, Verdampfungsschiffchen, Verdampfungsmaterialien, Sputtertargets usw.

Vakuumofen

Ein Vakuumofen verwendet ein Vakuumsystem (sorgfältig zusammengesetzt aus Vakuumpumpen, Vakuummessgeräten, Vakuumventilen und anderen Komponenten) in einem bestimmten Raum des Ofenhohlraums, um einen Teil des Materials im Ofenhohlraum abzuführen, sodass der Druck im Ofen steigt Im Hohlraum liegt der Druck unter einem Standardatmosphärendruck., der Raum im Ofenhohlraum wird genutzt, um einen Vakuumzustand zu erreichen, der ein Vakuumofen ist.

Ein Vakuumofen ist ein Vakuum-Wärmebehandlungsofen, der nach seiner Anwendung unterschieden wird und folgende Typen umfasst:
Vakuum-Abschreckofen, Vakuum-Lötofen, Vakuum-Glühofen, Vakuum-Magnetisierungsofen, Vakuum-Temperofen, Vakuum-Sinterofen, Vakuum-Diffusionsschweißofen, Vakuum-Aufkohlungsofen usw.

https://www.winnersmetals.com/application/#Hochtemperatur-Vakuumofen

Vakuumöfen werden hauptsächlich zum Brennen von Keramik, zum Vakuumschmelzen, zum Entgasen von elektrischen Vakuumteilen, zum Glühen, zum Hartlöten von Metallteilen, zum Versiegeln von Keramik und Metall, zur physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) usw. verwendet.

Wir bieten Heizelemente, Bootsschalen und -träger, Hitzeschilde, Tiegel und Auskleidungen, Wolframfäden und Verdampfungsquellen, Befestigungselemente und mehr, erhältlich in den Materialien Wolfram, Molybdän oder Tantal und können individuell angepasst werden.

Photovoltaik und Halbleiter

Ein Einkristall-Silizium-Wachstumsofen, auch Silizium-Kristall-Wachstumsofen oder Silizium-Ingot-Ofen genannt, ist eine spezielle Ausrüstung, die in der Photovoltaik- und Halbleiterindustrie zur Herstellung hochwertiger Einkristall-Siliziumbarren verwendet wird.Monokristallines Silizium ist das Grundmaterial für die Herstellung von Halbleiterbauelementen wie integrierten Schaltkreisen (ICs), Solarzellen und Sensoren.

Die „Czochralski-Methode“ ist derzeit die am weitesten verbreitete Methode zur Herstellung von einkristallinem Silizium.

Bei der Herstellung von einkristallinem Silizium mit der Czochralski-Methode (CZ-Methode) geben Sie zunächst hochreines polykristallines Silizium in einen Quarztiegel, warten Sie, bis das polykristalline Silizium in einem Einkristallofen schmilzt, und befestigen Sie dann den Impfkristall auf dem Keim Achse und führen Sie sie in die Oberfläche der Lösung ein.Während man auf die Verschmelzung des Impfkristalls und der Lösung wartet, beginnt sich das Silizium auf dem Impfkristall zu verfestigen und entlang der Gitterstruktur des Impfkristalls zu wachsen, um einkristallines Silizium zu bilden.Während dieses Prozesses muss der Impfkristall langsam gezogen werden, damit das einkristalline Silizium weiter wachsen kann.

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Wir bieten Molybdän-Impfstäbe, Wolfram- und Molybdän-Tiegelauskleidungen, Befestigungselemente, Molybdän-Haken, Wolframcarbid-Hämmer usw.

Glas und seltene Erden

Die Glasindustrie spielt eine wichtige Rolle in der modernen Gesellschaft, da sie wichtige Materialien für Bau, Transport, Technologie, Gesundheitswesen und Verpackung liefert und gleichzeitig Innovation, Nachhaltigkeit und Wirtschaftswachstum vorantreibt.

Wir können Molybdänelektroden zum Glasschmelzen liefern.Die üblicherweise verwendeten Molybdän-Elektrodendurchmesser liegen zwischen 20 mm und 152,4 mm, und die Länge einer einzelnen Elektrode kann bis zu 1500 mm betragen.Wir können alkaligewaschene Oberflächen, maschinell polierte Oberflächen usw. liefern.

Glas und seltene Erden

Die Seltenerdindustrie umfasst die Gewinnung, Verarbeitung und Nutzung seltener Erdelemente, die für die Förderung technologischer Innovationen und die Unterstützung des Übergangs zu einer kohlenstoffarmen High-Tech-Wirtschaft von entscheidender Bedeutung sind.Seltenerdelemente sind wichtige Bestandteile verschiedener fortschrittlicher Technologien und Anwendungen.

Wir können Heizelemente aus Wolfram, Molybdän und Tantal liefern;gesinterte Wolfram-, Molybdäntiegel und Graphittiegel usw.

Instrumente und Messgerätezubehör

● Metallmembranen werden hauptsächlich in Membrandruckmessgeräten und -transmittern verwendet.Zu den von uns produzierten Materialien gehören SS316L, Tantal, Titan, HC276, Monel400 und Inconel625.

● Signalelektroden werden hauptsächlich in elektromagnetischen Durchflussmessern verwendet.Die Elektrodengröße beträgt M3~M8 und die Materialien umfassen SS316L, Tantal, Titan und HC276.

● Erdungselektroden, auch Erdungsringe genannt, werden hauptsächlich in elektromagnetischen Durchflussmessern verwendet und normalerweise paarweise verwendet.Die Größe reicht von DN25 bis DN600 und die Materialien umfassen SS316L, Tantal, Titan und HC276.

● Membrandichter Flansch, meist mit Membrandichtung zur Isolierung der Messzelle vom Medium.Die von uns hergestellten Flanschmaterialien sind SS316L, Titan, HC276 und Tantal.Entspricht ASME B 16.5, DIN EN 1092-1 und anderen Normen.

Instrumentenindustrie

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