Die Technologie der physikalischen Gasphasenabscheidung (Physical Vapour Deposition, PVD) bezieht sich auf die Verwendung physikalischer Methoden unter Vakuumbedingungen, um die Oberfläche einer Materialquelle (fest oder flüssig) in gasförmige Atome oder Moleküle zu verdampfen oder teilweise zu Ionen zu ionisieren und niedrige Temperaturen zu passieren -Druckgas (oder Plasma). Prozess, eine Technologie zur Abscheidung eines dünnen Films mit einer besonderen Funktion auf der Oberfläche eines Substrats, und die physikalische Gasphasenabscheidung ist eine der wichtigsten Oberflächenbehandlungstechnologien. Die PVD-Beschichtungstechnologie (Physical Vapour Deposition) wird hauptsächlich in drei Kategorien unterteilt: Vakuumverdampfungsbeschichtung, Vakuumsputterbeschichtung und Vakuumionenbeschichtung.
Unsere Produkte werden hauptsächlich in der thermischen Verdampfung und Sputterbeschichtung eingesetzt. Zu den Produkten, die bei der Dampfabscheidung verwendet werden, gehören Wolframlitzendraht, Wolframboote, Molybdänboote und Tantalboote. Zu den Produkten, die bei der Elektronenstrahlbeschichtung verwendet werden, gehören Kathodenwolframdraht, Kupfertiegel, Wolframtiegel und Molybdänverarbeitungsteile. Zu den Produkten, die bei der Sputterbeschichtung verwendet werden, gehört Titan Targets, Chrom-Targets und Titan-Aluminium-Targets.
